9月25日消息，据报道，Intel正在加码采购ASML的High-NA EUV光刻机，计划购买两台相关设备，这一数量较之前计划的单台设备翻了一番。
ASML的High-NA EUV光刻机不仅价格高昂，更能够实现更高的分辨率和更精细的芯片制造关键，是未来高端芯片制造的关键。
目前，全球仅有少数几家公司能够获得ASML的High-NA EUV设备，包括台积电、三星、SK海力士和Intel。
Intel的14A工艺计划引入高数值孔径（High-NA）光刻技术，这将是Intel代工服务（IFS）部门的重大里程碑。
14A工艺的成功与否对Intel的未来发展至关重要，因为如果该工艺无法获得客户的广泛采用，Intel可能会放弃对高端芯片制造节点的追求。因此，14A工艺可以说是Intel在高端芯片制造领域的“背水一战”。
据估算，ASML的单台High-NA EUV光刻机价格约为3.7亿美元，意味着Intel仅在光刻设备上就可能花费10亿至20亿美元。
本文转载于快科技，文中观点仅代表作者个人看法，本站只做信息存储
本文来自于网络或用户投稿，本站仅供信息存储，阅读前请先查看【免责声明】,若本文侵犯了原著者的合法权益，可联系我们进行处理。本文链接：https://www.trustany.com/post/11504.html
